由于众所周知的因素所影响，中国一直难以买到先进的光刻机，这影响着中国在芯片制造方面的发展，也让国内高度关注芯片设备技术的发展，其实中国在芯片设备方面也并非完全落后，在某些芯片设备方面已达到世界先进水平。
日前中国芯片设备行业就传出了重大利好消息，指中国在3纳米芯片设备方面已取得重要突破，这也是中国在芯片设备方面所达到的最先进水平，几乎已与全球同步，这项设备就是刻蚀机。
中国在刻蚀机方面其实一直都与全球保持在同一水平，数年前全球量产5纳米，中国的刻蚀机也迅速达到了5纳米的水平，当时上海中微公司的5纳米刻蚀机甚至还得到了台积电的认可，可见中国在刻蚀机方面的水平确实足够先进。
刻蚀机也是芯片制造的一个重要环节，仅次于光刻机，光刻机将电路图印制在晶圆上之后，就需要刻蚀机对这些电路进行刻蚀，然后再进行其他步骤，进而最终生产出芯片这种成品，由此可见刻蚀机的重要性。
中国在刻蚀机技术方面达到世界先进水平，在于中国早早布局，2000年初张汝京在中国大陆创立了中芯国际不久，当时诸多海外人才纷纷回来中国创业，中微公司的创始人尹志骁也在2000年后不久回国创立了中微公司。
获益于尹志骁在美国Intel等公司从业积累的技术，再加上他的回国带回了一批芯片人才，由此中微公司拥有了一定的技术基础，在此后的20年时间默默耕耘，从零起步逐渐打造出了全球最先进的刻蚀机。
当然中国庞大的市场，以及刚刚兴起的芯片制造也为中微公司的发展提供了沃土，时至今日中国最先进的工艺只是达到7纳米工艺，如此刚刚创立的中微公司研发的刻蚀机在国内仍然有市场，还是全球最大的芯片市场，由此中微公司伴随着中国芯片产业的发展，逐渐成为全球重要的芯片设备商。
中国在刻蚀机方面的发展，证明了中国并非不可能从零起步，打造自己的芯片制造产业链，更何况中国其实在之前就有一定的基础，1990年代中国其实已有光刻机产业，只是后来国内市场的发展让光刻机等设备产业未能抓住市场契机。
这几年以美国为首屡屡限制对中国出口先进的芯片设备，严重影响了中国芯片产业的发展，而如今中国的刻蚀机达到全球先进水平，将鼓舞国内的芯片制造产业链努力拼搏，只要各个行业企业共同努力，中国迟早能研发成功先进的光刻机。
中国在光刻机方面其实已具有一定的基础，浸润式光刻机技术已在去年实现量产，也正是有鉴于国内在浸润式光刻机技术上的突破，光刻机企业ASML才突然获得许可对中国供应先进的浸润式光刻机2000i，如此坚持下去，国内实现完全自主的芯片制造产业链必将成为现实。
华人在全球芯片行业起到了重要的作用，NVIDIA、AMD、博通等全球知名的芯片企业都由华人掌舵或创立，证明了华人在芯片技术研发方面的天赋，尹志骁博士等人在中国取得的卓越成就，将激励更多华人回中国创业，这也将成为中国芯片技术发展的巨大潜力，或许将来有一天中国将不仅实现完全的芯片自主研发，还将主导全球芯片技术发展的方向。
