德国plasma Implant植入式等离子体发生器有效使植入物表面功能化和清洁灭菌
北京中海时代科技公司提供等离子plasma表面处理设备，致力于常压等离子体表面清洗处理、表面活化改性领域多年，等离子表面处理技术已被广泛应用到工业、医疗、科研等行业。我们为您提供可靠的等离子表面处理解决方案。
Implant plasma植入式等离子体发生器有效地使植体表面功能化和清洁灭菌，以优化其表面特性。 通过用大气压等离子体对表面进行功能化，清洁表面，对植入物进行灭菌并降低感染风险。 改善的润湿性促进了植入物表面的细胞形成，并且加速了愈合过程．
Implant plasma－concept － 种植体功能化
使用CeraPlas技术
医用工程材料如氧化锆陶瓷或钛和不锈钢，以及PEEK、聚四氟乙烯、硅树脂和高填充聚合物可以有效地优化其润湿性能。 该性质是良好的粘合剂粘合或生物相容性以及周围活组织的接受性的基础。 该技术已经使用多年，以使牙科植入物功能化。 通过用大气压等离子体对表面进行功能化，清洁表面，对植入物进行灭菌并降低感染风险。同时，植入物的表面能增加。改善的润湿性改善了植入物表面上的细胞沉积并加速了愈合过程。
医学和牙科植入物都必须无菌，并具有良好的湿润性，以降低感染、炎症或被周围组织排斥的风险。新的植入式制剂概念提供了一种快速和简便的植入物处理方法，可以减少表面的细菌，同时通过使用大气压等离子体增加其湿润性。
紧凑型电离腔室不需要外部气体输入，在大气条件下工作，使用创新、紧凑的等离子体形式产生非热或“冷”等离子体。基于等离子体发生器之一，Ceraplas F－Type，高效PDD（压电介质放电）技术®可用于各种需要很少空间和功率的应用。
Implant plasma是用于功能化植入物以优化其表面特性的新设备。 该装置能够在植入前立即进行自动等离子体处理。 将植入物置于小室内，按下按钮开始30秒的等离子体处理。 为了确保植入物被均匀地处理，它在等离子体放电前旋转。 处理后，产生的臭氧在10秒的过程中被活性炭过滤器自动中和。 所有处理步骤均由显示屏和LED信号指示． 通过用大气压等离子体对表面进行功能化，清洁表面，对植入物进行灭菌并降低感染风险。 改善的润湿性促进了植入物表面的细胞形成，并且加速了愈合过程．
技术
RP Plasma开发了PDD技术®（压电直接放电），用于特别紧凑的等离子体生成。 PDDTechnology®基于开放式压电变压器（PT）的直接放电。 PDD®技术可转换低输入电压。这导致高电场强度。这会使周围的工艺气体 － 通常是空气 – 电离并离子化。消毒主要通过用臭氧氧化产生气味的分子和微生物来进行。
优势
等离子体implant plasma的优点是显而易见的：
小巧紧凑
使用方便
经过验证的安全应用
用户非常容易处理
高效安全地激发气体分子
极高功率密度的紧凑型设备
由于热量损失低，因此非常节能
操作仅需24 V（标准插座的电源）
非常环保，不需要辅助材料，如化学品或添加剂
