之前芯天下写过一篇关于台积电张忠谋的文章，今天我们来聊聊台积电的传奇人物——中研院院士林本坚，台积电前研发副总经理林本坚。
他改变了全球半导体产业技术路径，让老大哥英特尔（Intel）及设备商艾斯摩尔（ASML）、尼康（Nikon）等业内巨头，舍弃耗费逾10 亿美元和数年的研究心力，跟着他与台积电一起转弯。 不但全球半导体制程得以往下推进6 到7 个世代，约14 年时光，台积电也因此跻身一线大厂、主导业界规格。
台积电董事长张忠谋曾称赞：假如没有林本坚及其团队，”台积电的微影（半导体关键制程之一）不会有今天这规模。“
2018年9月8日，林本坚因开拓浸润式微影系统方法，持续扩展纳米级集成电路制造，将摩尔定律延伸多代荣膺2018年未来科学大奖—数学与计算机科学奖。
世界上第一个提出这个科技的就是林本坚。咱们的科学家委员会能够找出林本坚这样在工业界作出世界级、决定性贡献的华人科学家真是令人佩服。这样的人在中国，绝无仅有。
如今，浸润式显影不但是英特尔（Intel）等半导体龙头、设备商所认定的跨入45纳米制程之后的解决方案，也已正式纳入国际半导体蓝图架构成为主流。
他工作两年，就搞出大事。
他到台积电工作两年，就搞出轰动全世界半导体界的大事。
当时业界主要微影光源──波长 193 奈米的雷射，性能已经难以持续推动摩尔定律。 而预计接棒的 157 奈米光源，因为种种技术难题，商用化时程一再延后，成为业界头痛的问题。
当林本坚在 2002 年，应邀到 157 奈米的业界研讨会，竟然以一个众人都没想到的技术──将既有技术小幅改良的 193 奈米浸润式微影为演讲主题，结果引起满场轰动。
把摩尔定律推进七代
正所谓时势造英雄，当时已在台积电担任光刻技术研发负责人的林本坚，早已注意到这个瓶颈。他换个角度思考，发现可以在原有193纳米干式光刻镜头上发展浸润式光刻，改用水代替空气作为介质，注入为浸润式设计的镜头与晶圆上的光阻之间，把进入光阻的光波长缩到134纳米。因而提高44%解析度的影像就可以转接到晶圆的光阻上，让刻出的电路更精细。就是这个思考让林本坚相信，改变原本的193纳米干式曝光为浸润式，就可以让工艺前进两代半甚至三代。
林本坚在台积电研发的期间带领团队从130纳米、做到90纳米、65纳米、40纳米、28纳米、20纳米、和16纳米，并开始研发10纳米、7纳米、和5纳米。他的创新和推动不但让全球芯片工艺得以往下推进了6、7代，台积电也因此跻身一线大厂、主导业界规格。
一句话，让台积电南科厂继续盖。
时间回到 2001 年，当时台湾朝野为了高铁完工之后，以 300 公里时速呼啸而过产生的震动，会不会影响附近南科区内半导体厂生产，而争论不休。
当时台积的在南科已有一座六厂，十四厂厂房外观刚完工，但设备尚未搬入，便暂停施工。 「整个园区都有这困扰，要不要盖下去，不晓得怎么办？ 」林本坚回
蒋尚义推荐林本坚加入台积内部的评估小组，因为他负责的光学微影对震动最敏感，他觉得没影响，其他部份理应也没影响。 他欣然同意，因为他在 IBM 做过过震动对机台影响的研究，正巧派上用场。
他做了详尽的实验，细细分析之后，得出结论：「没有影响。」
台积电董事长张忠谋一声令下，原先停工的 14 厂复工。 纷扰一时的高铁震动争议，也因此烟消云散。 联电等其他半导体厂，也跟着在南科加码投资。
目前南科已成为台积电未来十年的扩厂重点，不但目前 16 奈米及 20 奈米制程均在南科生产，未来的 5 奈米、3 奈米先进制程也都将在此。 预计占台积营收比重，将超过 50%。 预计员工人数超过 1.4 万人，带动的群聚效应、投资外溢效果更远超过这些数字。
林本坚一生获奖无数，曾10度获美国IBM杰出发明奖、美国IBM杰出贡献奖、2008年当选美国国家工程学院院士……，更在2014年获选为台湾中研院院士，成为台湾最高学术殿堂首位企业界院士。如今，林本坚又获得2018年未来科学大奖数学与计算机科学奖，奖金100万美元。
