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【聚焦】下游市场快速发展推动原子层沉积设备国产化发展

新思界网2022-05-30 16:14发文

原子层沉积设备的设计制造涉及化学、物理、工程等多门学科的跨界综合运用,ALD技术是一种特殊的真空薄膜沉积方法,具有较高的技术壁垒。

薄膜沉积指的是在基底上沉积特定材料形成薄膜,使之具有光学、电学等方面的特殊性能,按工艺原理的不同可分为物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)设备,按设备形态的不同可分为批量式(管式)和空间型(板式)两种技术路线。

原子层沉积设备是一种重要的薄膜沉积设备,由于ALD技术的表面化学反应具有自限性,因此拥有优异的三维共形性、大面积成膜的均匀性和精确的膜厚控制等特点,广泛适用于不同环境下的薄膜沉积,在光伏、半导体、柔性电子等新型显示、MEMS、催化及光学器件等诸多高精尖领域均拥有良好的产业化前景。

近年来,我国原子层沉积设备下游行业发展快速,推动了原子层沉积设备市场快速发展。

光伏领域,我国光伏产业凭借国家政策的大力支持与人力资源、成本优势,发展极为迅速。截至2020年底,我国光伏发电装机量达253GW,同比增长48.2%,连续6年位居全球首位;2020年新增光伏发电装机48.2GW,增幅达60.1%,连续8年位居世界第一。同时,自2010年以来,中国一直是全球最大的光伏设备市场。2020年,我国光伏设备产业规模超过280亿元。

半导体领域,我国处于已成为全球最重要的半导体应用和消费市场之一,正处于新一代智能手机、物联网、人工智能5G通信等行业快速崛起的进程中,2020年中国集成电路产业销售额为8,848亿元人民币,较2019年增长17%,在2020年受疫情影响的情况下,中国集成电路产业销售额仍稳步提升。

新型显示领域,我国目前主流应用的显示技术为LCD和OLED,随着产业持续升级,从中长期看,新型显示技术如柔性电子、Mini/Micro LED市场规模将快速提升。

原子层沉积设备的设计制造涉及化学、物理、工程等多门学科的跨界综合运用,ALD技术是一种特殊的真空薄膜沉积方法,具有较高的技术壁垒。因此行业对企业的技术实力、资金实力和团队实力要求较高,早期我国原子层沉积设备主要被国外厂商垄断。近年来,随着本土企业不断加强研发和投资力度,本土厂商日益崛起。

新思界产业研究中心发布的《2022-2026年中国原子层沉积(ALD)设备行业市场行情监测及未来发展前景研究报告》显示,在半导体领域,原子层沉积设备市场仍主要被国外企业占据,主要企业包括东京电子(TEL)、先晶半导体(ASM)、泛林半导体(Lam)、应用材料(AMAT)、日本国际电气(KE)等,本土企业较少,主要有北方华创、拓荆科技、中微公司、微导纳米等。

光伏领域,国内厂商相对较多,国外企业主要有Meyer Burger(梅耶博格)、Centrotherm(商先创)、韩国NCD等,国内企业主要有无锡松煜、理想晶延、捷佳伟创、北方华创、红太阳、Centrotherm(商先创)、微导纳米等。

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