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发力NIL技术,佳能想给中国提供光刻机,还是媲美EUV的那种

互联网乱侃秀 2022-11-28 10:30 发布于湖南 发文

众所周知,目前芯片的制造流程中,光刻机是必不可少的设备,且从成本来看,光刻机占所有半导体设备成本的20-25%。

但是大家也清楚,当前在光刻机领域,ASML是一家独大,特别是EUV光刻机,只有ASML能够生产,而在尖端一点的DUV光刻上面,也是ASML占优,佳能、尼康等品牌,主要占的是低档市场。

如上图所示,这是机构统计的2021年前道光刻机出货量情况,大家可以看到高档的EUV光刻机,ASML完全垄断,低档尼康、佳能有一定的份额。

而中国大量需要光刻机,特别是EUV光刻机,这就造成了市场与需求的不匹配,但ASML也没办法啊。

所以其它厂商有一个非常大的机会,那就是搞定EUV光刻机,然后卖给中国,那会是巨大的市场。

不过,要掌握EUV光刻机技术,可不容易,因为ASML造EUV光刻机,是整合了全球的技术,美国的光源、德国的镜片、英国的真空腔,可以说是举全球之力完成的。

虽然尼康、佳能、上海微电子都有光刻机,但要搞定EUV光刻机,估计是没太多办法的,ASML攒局的能力太强了,已经将利益链捆绑在一起了。

为此,这要怎么办呢?当然就要换道超车了,比如佳能,知道在EUV上是不可能打败ASML的,所以一直押注纳米压印光刻(NIL)技术。

所谓NIL技术,是将三维结构的掩膜压在晶圆的感光材料上,同时照射光线完成一次性转印,被称为是最有前景的光刻技术之一。

目前在NIL的专利上,佳能一支独秀,远超其它任何厂商,并且佳能的NIL光刻机不仅仅是停留在纸面上,而是已经有有生产出来了,在2021年就有了成品,并且被铠侠应用于NAND闪存的生产。

佳能近日表示,接下来会研发新一代的NIL光刻机,新一代的NIL光刻机,有可能应用于28nm甚至14nm及以下的工艺。

值得大家注意的是,目前NIL技术,基本上都是日系厂商掌握,并不需要依赖美国、欧洲等的产业链,也就是说NIL光刻机,日本一旦生产出来,可以不听美国的,不受美国的长臂管辖,也意味着佳能一定生产出来,是可以卖给中国的。

当然现在的问题是,能够媲美EUV光刻机的NIL光刻机,究竟会在什么时候面市,如果佳能能够实现这个技术,全球的半导体格局都有可能生变。

一旦媲美EUV光刻机的NIL光刻机面市,以ASML为中心,以为美国意志为体现的的先进工艺制程,可能就再也不听美国的了,会迎来蓬勃发展,可能全球都在盼望着佳能的大动作,特别是中国。

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