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ASML的哀伤,全球抛弃EUV光刻机,跪舔美国如今却后悔不迭

柏铭007 2022-11-24 11:47 发布于广东 发文

ASML依靠独有的EUV光刻机赚得盆满钵满,曾经芯片企业排队抢购EUV光刻机,然而如今全球市场却出现一股风潮,那就是绕开EUV光刻机,这让ASML后悔不迭。

首先是ASML跪舔的美国抛弃了它。美国芯片企业美光表示绕开EUV光刻机研发的10nm级别的1β工艺提升了存储密度30%,而功耗降低了20%,更重要的是成本大幅下降,这主要是因为EUV光刻机比美光现在采用的EUV光刻机贵了2-3倍。

其次是美国光刻机企业Zyvex公司研发电子束光刻机,绕开了ASML的EUV光刻机,并且将先进工艺提升到0.768纳米,打破了ASML尚未量产的第二代EUV光刻机的极限,如此一来美国芯片企业未来很可能不再采购ASML的EUV光刻机。

再次是财大气粗的台积电也一反常态不在抢购EUV光刻机,台积电当下的先进工艺制程产能过剩,而客户由于全球芯片行业衰退而转向选择成熟工艺,为了增强竞争优势,台积电建立“3D Fabric”联盟,以3D封装技术提高成熟工艺的性能降低成本。

日本芯片行业早已绕开EUV光刻机开发了NIL工艺,据悉日本的NIL工艺已先后打破10nm、5nm,NIL工艺的成本比EUV光刻机工艺降低六成,这对于ASML同样是重大打击,日本芯片设备行业曾经领先ASML,如今日本在先进工艺技术方面绕开EUV光刻机将重振芯片设备产业,日本或许为了重振芯片设备产业而对海外销售更将成为压倒ASML的最后一根稻草。

面对中国台湾、美国和日本的芯片企业做出的选择,ASML似乎还颇为硬气,近期宣布将在未来两年大举扩张EUV光刻机和DUV光刻机的产能,业界人士认为ASML此举可能是计划在未来对中国出售光刻机。

然而由于ASML迟迟没有做出对中国销售光刻机的决定,中国已失去耐心。早前中国招标28台光刻机的时候,其中21台给了日本光刻机企业,7台给了中国大陆的企业;中国的芯片封测企业已在封装技术方面推出了5nm芯粒技术,还在量子芯片、光子芯片等技术方面取得突破,显示出中国正在决意绕开ASML的EUV光刻机。

随着中国这个ASML期待的最后市场的转肽,ASML正陷入窘境,这一切都与ASML跪舔美国有关。此前美国提出的每项举措,ASML都迅速紧紧跟随,美国要求ASML不得对中国出售EUV光刻机,ASML在收取了中芯国际1.2亿美元货款后延迟了4年都未交付,今年美国又要求ASML不得对中国出售14nm以下的DUV光刻机,ASML照单全收。

然而如今却是美国率先背叛ASML,然后日本再施加压力,台积电等无力大规模采购EUV光刻机,最终导致了ASML陷入如今的窘境,可以说ASML如今的结果完全是它咎由自取。

事实已经证明了先进工艺已不仅只有EUV这个ASML的独门武器,研发先进工艺有了更多途径,ASML获取厚利的EUV光刻机因为成本昂贵而被抛弃,如果没有了EUV光刻机带来的厚利,ASML将再度回到20年前艰难求生的日子,对此它或许已经后悔不迭了吧?

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